Názory k článku Intel zřejmě přiznal, že jeho 1,8nm křemíková technologie je horší než 2nm proces od TSMC

Pěkný postřeh.

To je presne to čo som písal v minulom článku kedy Intel to už aj reálne pochopil, že sa musí dostať na lepšiu outsoursovanú litografiu ako konkurencia tak ako tomu bolo už takmer pred dekádov.
To je jediná cesta ako opäť môže poslať konkurenciu sa opäť zahrabať.

Zároveň je to jako pro Fab hráče ale velká prohra, to je třeba taky říct.

Možná by intel mohl svoje tovarny odprodat GlobalFoundries, šejkové se v polovodičovém průmyslu osvědčili a společnými silami by mohli nastolit nove paradigma ;-D

:-D to by byl vskutku povedený tah.

Vyrábí vůbec Intel nějaký svůj procesor s využitím EUV? To jsou samé roadmapy a já nevím jaké zaklínání, ale má vůbec Intel spuštěnou EUV produkci svých čipů nebo se furt matlá na staré technologii v produkci a jen práská prezentace? Kam zmizely ty Intelem koupený EUV mašiny, co se na nich dělá?

11. 2. 2024, 00:13 editováno autorem komentáře

v teto souvislosti clanek o nove mašině TWINSCAN EXE:5000 od ASML nebude?

€350 million (2x vice nez predchozi)

The new platform, known as EXE, offers chipmakers a CD of 8 nm. That means they can print transistors 1.7 times smaller – and therefore achieve transistor densities 2.9 times higher – than they can with NXE systems.

After a decade of R&D, ASML shipped the first modules of the first High NA EUV lithography system to Intel in December 2023.

Installation of the first 150,000-kilogram (331,000-pound) system required 250 crates, 250 engineers and six months to complete

Because of their anamorphic optics, EXE systems have exposure fields half the size of their NXE predecessors. It therefore takes twice as many exposures to pattern a single wafer.

Twice as many exposures could have meant twice as long to print a wafer. Instead, we took it as a challenge. The solution? Much faster wafer and reticle stages. The wafer stage in an EXE system accelerates at 8g, twice as fast as the NXE’s wafer stage. And the EXE’s reticle stage accelerates four times faster than the NXE’s – 32g, the equivalent of a race car going from 0 to 100 km/h in 0.09 seconds.

(https://www.asml.com/en/news/stories/2024/5-things-high-na-euv)

Po meteor Lake nepřijde Arrow Lake. To už neplatí. Teď tam bude Bartlett Lake, což bude refresh refreshe Raptor Lake. Arrow Lake se co? Zpozdí...

To ještě nevíme, Bartlett Lake ještě není jisté a zatím ty zprávy mluví ještě jenom o tom, že to bude doplněk, ne nahrazení Arrow Lake v desktopu.

V laptopech Arrow Lake asi ohrožené nebude, když už Intel dokázal vydat Meteor Lake. Samozřejmě, další negativní (pro Intel) překvapení nelze vyloučit.

Žádná novinka
Pokud 10nm Intelu je optimalizovaný 14nm proces, vlastně dnes přejmenovaný na Intel 7
(...mimochodem velice vtipny posun 14nm->10nm-7, jeden a ten stejný výrobní proces) Tak je v tom pěkný bordel. Ale co už.
Tam kde měl Intel 14nm měla konkurence nasazený už 12-10nm
Tam kde byl Intel 10nm, měla konkurence už 8-7nm
Tam kde Intel měl 7nm, konkurence měla 5nm

A co se týče výkonu nebo efektivity, tak parita je zase jinde
Tam kde byl Intel 14nm konkurenci stačil vyladěný 16nm proces
...
...
A stejně je to i dnes, aby Intel dorovnal nebo přeskočil konkurenci, musel by nasadit o 1-2 generace novější proces. Je sice pěkný že přejmenoval své procesy na Intel 7, Intel 5, Intel 3, Intel 2, Intel 18A..... Aby srovnal značení s TSMC, ale reálně je to vážně o generaci posunuté, aspoň co se týče výkonu.
Intel 18A bude stěží 18Angstromů, reálně to bude tak 25-30Angs. tedy 3nm.

Intel nič přiznal, ale treba povedať, že by bolo super keby AMD vyštípal z najlepších výrobných procesov, alebo by ich rovno úplne za poriadne $$ z TSMC vyhnali. win-win :D

13. 2. 2024, 18:10 editováno autorem komentáře