Názor k článku Samsung začal vyrábět čipy už druhou generací 7nm procesu s EUV, technologií 7LPP od gogo1963 - píšeme, že "proces s EUV může usnadnit návrh...

píšeme, že "proces s EUV může usnadnit návrh – potřebuje až o 20 % méně masek", pak na konci odstavce ..."bez EUV jsme se již dostali ke čtyřnásobnému exponování, expozice EUV má být schopná nahradit je jedinou expozicí a tím i jedinou maskou." ... Ta matematika nějak nesedí ... 20% je jedna maska. EUV tedy potřebuje tři ...