Názor k článku Samsung začal vyrábět čipy už druhou generací 7nm procesu s EUV, technologií 7LPP od Jan Olšan - Ne, ono to sedí, akorát jsem v tom...

Ne, ono to sedí, akorát jsem v tom článku neuvedl jednu věc - důvod je ten, že EUV se aspoň teď ze začátku nenasadilo na všechny vrtsvy/expozice, ale jenom na některé (z důvodu komplikovanosti, ceny, doby potřebné pro osvit, kapacity těch zdrojů záření...). Samsung to myslím neuvádí, ale první generace EUV u TSMC ho bude používat na maximálně čtyři. Takže na pár vrstvách se zredukuje počet masek/expozic, ale na ostatních to ještě zůstane při starém, a výsledkem je, že v průměru celkový počet masek klesne míň (ono taky ne všechny kovové vrstvy třeba byly vícenásobně exponované).