Názory k článku TSMC pokračuje v jízdě. Za rok už mu má běžet zkušební výroba na 5nm procesu

Jestli jim to vychází opravdu takto hladce a povede se to i s EUV, tak to bude jízda. :)

Říkám si, jestli nové GPU od Nvidie už nebudou vážně na 7nm procesu. Nvidia je pro TSMC asi nejdůležitější zákazník a určitě jim poskytli nejlepší možné podmínky a kooperaci při návrhu čipů, takže masová výroba od cca. srpna by mohla připadat v úvahu.

Pořád je asi pravděpodobnější, že Nvidia sáhla po osvědčeném vyladěném 12nm procesu, s tím že nebýt kryptohorečky, byla nová generace možná už na jaře. Ale prostě vydávat teď novinku na 12nm procesu, když už se rozbíhá masová výroba na 7nm procesu....nevím nevím.

Na jaké velikosti je fyzikální limit, kde se dá reálně dostat?

Me vice vrta hlavou proc by intel mel vubec zacinat komerni vyrobu na 10nm kdyz konkurence zacne na 5nm.
Je jasne ze do toho vybaveni a celkove utopil znacne penize ale prijde mi to jako nesmysl.
I ten vyhazov sefa je za danych okolnosti marketingovej, Proc by intel zniceho nic vyhodil sefa za to ze nekomu
postrikal koktejlky .......... Podle meho musi jit o uplne jiny pruser ktery se treba jeste zcela naplno neprojevil.
Kvuli tomu se nevyhazuje na hodinu. Vice mene je mozne za za to co obetoval intelu byla vedlejsi prace v praci lepsi
reseni s minimalnim dopadem na manzelstvi ( Je mu 58 ) nez ho treba profesne odrovnat. protoze byt bohaty a uspesny je zaroven i povinnosti prefiknout i jine maso nez je stara doma ;-)

Jelikož to číslo je jen fikce, dá se dostat kamkoli.
Jinak poloměr atomu křemíku je 0,111 nm, takže užší vodivou cestu asi nevyrobíme.

Za ten článek či spíše jeho lživý nadpis, by se mělo VTM stydět.

Jenže Intel 10nm proces odpovídá 7nm procesu od TSMC (který pro velké jádra teprve taky bude začínat), tzn. komerční výroba má určitě smysl.
Těch 5 nm TSMC příští rok je totiž jenom zkušební výroba. Ta má možná blízko ke komerční výrobě pidi mobilních čipů, ale vyrobit na tom čip s miliardami tranzistorů a vysokými frekvencemi půjde až za další rok/dva.

S EUV je problém ve světle (resp. jeho spolehlivém, levném a trvanlivém zdroji). Vše ostatní je už AFAIK vyladěno.

Ona to není úplně fikce, jen není moc dobře řečený, co že to číslo vlastně vyjadřuje.
Ale jak říkáš, velikost atomů obecně je kolem těch 0,1-0,2nm a je jasné, že z principu nikdy nemůže být nic jako 0,1nm proces, byť to číslo v označení procesu je o něco menší, než reálná velikost tranzistorů v daném křemíku.
Pořád se tu bavíme o stejném řádu v těch rozměrech a čísle procesu, takže ne, ani to označní nepůjde kamkoli.

Problém je, že u Intelu je obrovský rozdiel medzi tým čo majú na papieri, a tým čo reálne vyrábajú. Intelov 14nm proces má papierovo 37 miliónov tranzistorov na mm2 (čo je podstatne viac ako konkurencia), reálne 14nm procesory majú ale len 14 Mtr/mm2 (hlboko pod konkurenciou). To čo uvádzajú ostatní približne odpovedá tomu čo aj používajú. Takže aj keď tie procesy vyzerajú rovnako, stále je veľká pravdepodobnosť že Intel použije niečo horšie.

Ďalší nezmysel je tá rozprávka o pidi ARMoch. Je tak ťažké najprv si pozrieť nejaké parmetre a až potom písať? Inak Intel tiež sľuboval že bude vyrábať "jednoduché" ARMy predtým ako rozbehnú výrobu zložitých x86. Roky ubehli, skutok žiaden.

Vzhledem k tomu, že číslo označující jméno procesu nemá vůbec nic společného s rozměry tranzistorů, tak souhlasím s Radkem Holečkem - to číslo je marketingové hausnumero, kdyby markeťáci chtěli, nic jim nebrání "udělat" (teda spíš pojmenovat) 0,06nm proces.

Navíc vývoj není závislý pouze na rozměrech tranzistorů. Stále lze experimentovat a vyrábět různé tvary tranzistorů. Samsung chce nasadit Gate All Around Fet tranzistory (tuším že je teď odsunuli z 5nm procesu na 3nm proces), měly by být o pár desítek procent lepší než FinFety (ve všech vlastnostech).

Proč by to měl být problém? Intel nijak nezastírá, že si může vybírat podle účelu.
Má tři varianty "skládání tranzistorů v čipu", kdy jedna je optimální z hlediska hustoty (počtu tranzistorů na mm2), druhá z hlediska spotřeby a třetí z hlediska maximálně dosažitelného výkonu (frekvence).

O Gate All Around Fet jsem četl, že by to mělo nahradit FinFet, a samozřejmě toto jsou významné posuny a do budoucna ještě důležitější, protože zmenšování se dělá čím dál obtížněji.

Ale zase netvrďte něco ve smyslu, že nové procesy nemají menší tranzistory než předchozí. Ano, někdy je nový proces více o zhuštění tranzistorů, někdy o jejich zmenšení, každopádně jejich počet na stejné ploše každým novým procesem výrazně roste a to je důležité.

Neoznačuje hodnota procesu (např. 7nm) nejmenší dosažitelný rozměr v rámci masky osvitu?

Je to problém pretože sa tu porovnáva niečo čo je vo výrobe proti niečomu, čo sa do výroby nikdy nedostane. Je tam len nejaké dobré slovo Intelu.