Zdroje světla by asi taky ještě mohly být lepší, ale pokud vím, tak aktuálně je problém s tím, že nejsou tzv. pellicles - ochranné filmy používané (mimojiné asi) k zamezení přístupu prachu, nečistot*. IIRC pořád chybí materiál, který by měl dost dobré vlastnosti (neabsorboval moc záření) a zároveň chvíli vydržel to pražení. S tímhle má teď údajně velké problémy Samsung, který vsadil na to, že 7nm proces od začátku pojede s EUV, snad se prý snaží to rozjet bez těch pellicle, ale výtěžnost je prý hrozně špatná. (Samsung má ovšem pro tu situaci v záloze 8nm proces, což je evoluce 10nm procesu bez EUV).
* https://en.wikipedia.org/wiki/Photomask#Pellicles