Odpovídáte na názor k článku TSMC pokračuje v jízdě. Za rok už mu má běžet zkušební výroba na 5nm procesu. Názory mohou přidávat pouze registrovaní uživatelé.
Zdroje světla by asi taky ještě mohly být lepší, ale pokud vím, tak aktuálně je problém s tím, že nejsou tzv. pellicles - ochranné filmy používané (mimojiné asi) k zamezení přístupu prachu, nečistot*. IIRC pořád chybí materiál, který by měl dost dobré vlastnosti (neabsorboval moc záření) a zároveň chvíli vydržel to pražení. S tímhle má teď údajně velké problémy Samsung, který vsadil na to, že 7nm proces od začátku pojede s EUV, snad se prý snaží to rozjet bez těch pellicle, ale výtěžnost je prý hrozně špatná. (Samsung má ovšem pro tu situaci v záloze 8nm proces, což je evoluce 10nm procesu bez EUV).
* https://en.wikipedia.org/wiki/Photomask#Pellicles